巴斯夫贏創(chuàng)合作研發(fā)化學機械研磨液
慧聰網(wǎng)化工訊：贏創(chuàng)和巴斯夫近日宣布，雙方將合作發(fā)展二氧化鈰研磨液來制造計算機芯片。雙方預(yù)期合作研發(fā)出的研磨液將在2009年商品化。
據(jù)介紹，研磨液內(nèi)含有納米材料如鈰元素，可用在CMP (化學機械研磨) 制程中拋光二氧化硅的晶片表面，以達到非常平坦的效果。集成電路制造過程中最重要的步驟就是STI(淺溝槽隔離) 和ILD (內(nèi)層介電層)，而STI則需要使用到CMP研磨液。
贏創(chuàng)無機材料事業(yè)部有關(guān)負責人介紹，隨著較小尺寸芯片的問世，CMP對于集成電路的制備日益重要。贏創(chuàng)和巴斯夫相信這個項目將使雙方在CMP的技術(shù)上達到領(lǐng)先水平，并能提供新一代IC產(chǎn)業(yè)的解決方案和材料。
巴斯夫電子材料CMP事業(yè)部總監(jiān)馬濤博士表示：“化學在IC產(chǎn)品的發(fā)展中扮演重要角色，巴斯夫在化學領(lǐng)域強有力的背景，結(jié)合贏創(chuàng)在研磨粒子方面的專長，將保障我們推出的智能型解決方案滿足市場上日趨嚴格的要求�！�
據(jù)了解，贏創(chuàng)將在合作研發(fā)中提供各種等級的氧化鈰做為重要的基礎(chǔ)組分，并且提供這些粒子的制造技術(shù)。巴斯夫在歐洲及亞洲的高科技實驗室將提供CMP研磨液的化學配方、生產(chǎn)以及關(guān)鍵應(yīng)用技術(shù)。 |
